智通财经APP讯，11月18日，盛美上海(688082.SH)通过线上会议举行了科创板上市周年庆暨新品发布会。
此次发布的新产品是前道涂胶显影设备Ultra LITH，这标志着盛美上海正式进入了半导体前道光刻领域。
该新品用于前道300mm晶圆的涂胶显影，具有4个12英寸装载端口，8个涂胶腔和8个显影腔，可进一步扩展到12个涂胶腔和12个显影腔，适用于i-line、KrF和ArF等多种材料的涂胶显影工艺。
早在2013年时，盛美上海便研发出了用于后道封装的涂胶显影设备，并于2014年获得首台订单。在经过多年涂胶显影技术的积累后，公司终于在前道光刻领域迎来突破。
据悉，Ultra LITH设备采用了自主全球专利保护的全新系统结构设计，拥有稳定的电控架构及强大的软件系统，且具可扩张性，可以支持300 WPH及未来下一代高产出光刻机400 WPH的更高产出需求;搭载了高速稳定的机械手系统，多机械手协同配合，可实现晶圆传输路径的优化，提高传输效率。
同时，该设备的内部气流分布进行了优化处理，可减少颗粒污染，强大的清洗技术亦可支持未来浸没式光刻机对硅片背面的颗粒清洗需求;此外，分区控制的高精度热板由公司自主研发，已达到业界先进水平。且该设备适配性强，支持主流的光刻机接口，第一台设备出货便可进行与光刻机的对接测试。
Ultra LITH的发布，代表着以清洗设备起家的盛美上海在半导体制造工艺中的布局“再下一城”。其实，自2021年11月18日在科创板上市至今，仅一年的时间，盛美上海便已发布了包括此次的前道涂胶显影设备在内的共计8款产品，涉及了半导体及新型化合物半导体制造工艺的电镀、清洗、薄膜沉积、涂胶显影等多个环节，凸显了公司的强大研发实力。
而这背后，是盛美上海持续推进产品多元化、平台化发展战略的具体体现，此次在前道光刻领域的突破，将进一步打开公司的成长空间，为盛美上海在长期多维度上取得持续高成长的业绩打下坚实基础。
